GEW lanceert de C3 een nieuwe reflectorontwerp voor haar UV curing systemen. Deze derde generatie reflector is ontwikkeld als een vervanging van de huidige extreme XC ‘extreem cure' reflectorsysteem die wordt gebruikt op haar VCP en eCP platforms.
Net als bij de XC, levert de C3 ook een volledig gerichte UV-output om de overdracht van UV-straling naar de inkt te optimaliseren. Beide reflectorprofielen werden ontworpen met behulp van ray-tracing, een geautomatiseerd modelleringprogramma om de effecten van verschillende reflectorontwerpen te simuleren.
Dit heeft het mogelijk gemaakt de nieuwste reflectoren van GEW 25 tot 30 % efficiënter te maken. Daarnaast kent de C3 nog een aantal verbeteringen, zoals een beter warmtemanagement. Di t is een belangrijke stap voorwaarts in termen van zijn veelzijdigheid en het scala van substraten die effectief kunnen worden verwerkt.
Drie belangrijke verbeteringen:
- Ten eerste bestaat het reflector materiaal nu uit een speciaal ontwikkelde multi-layered dichroïde coating (was gepolijst aluminium).
- De tweede verbetering is de toevoeging van een koude filter, die IR-straling van de lamp blokkeert en voorkomt dat dit het substraat bereikt, terwijl de UV-straling gewoon kan passeren.
- Ten derde is een ‘koude sluitertijd' geïntegreerd in de C3. Dit betekent het risico van schade aan substraten door oververhitting, wanneer de printer of zeefdrukpers stopt, is uitgesloten.
